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产品详情
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  • 产品名称：晶圆玻璃薄膜厚度测量仪

  • 产品型号：C10178-03E
  • 产品厂商：HAMAMATSU滨松
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简单介绍：
HAMAMATSU滨松晶圆玻璃薄膜厚度测量仪C10178-03E
详情介绍：

HAMAMATSU滨松晶圆玻璃薄膜厚度测量仪C10178-03E

应用：高速测量晶圆、玻璃和薄膜的厚度。（测量范围：玻璃：1 nm 至 20 μm，硅：0.43 nm 至 8.6 μm）

Optical NanoGauge 膜厚测量系统 C10178 是一种利用光谱干涉法的非接触式膜厚测量系统。通过光谱干涉法以高灵敏度和高精度快速测量薄膜厚度。我们的产品使用多通道光谱仪 PMA 作为探测器，可以测量量子产率、反射、透射/吸收和各种其他点，同时测量各种滤光片和涂层膜的厚度等。


特点

  • 高速和高精度（测量薄膜厚度范围（玻璃）：150 nm～50 μm）
  • 实时测量
  • **测量起伏不定的薄膜
  • 分析光学常数（n、k）
  • 提供外部控制
  • 量子产率、反射率、透射率和吸收率可通过具体的附件测量

详细参数

型号 C10178-03E
测量型号（特点） 支持 NIR
可测量的薄膜厚度范围（玻璃） 150 nm 至 50 μm*1
测量重现性（玻璃） 0.05 nm*2 *3
测量精度（玻璃） ±0.4%*3 *4
光源 卤素光源
测量波长 900 nm 至 1650 nm
光斑尺寸 约 φ1 mm*3
工作距离 10 mm*3
可测量层数 *多 10 层
分析 FFT 分析、拟合分析、光学常数分析
测量时间 19 ms/point*5
光纤连接器形状 φ12 套管形
外部控制功能 RS-232C、PIPE、以太网
电源 AC200 V 至 AC240 V，50 Hz/60 Hz
功耗 约 230 VA
*1：当以玻璃折射率 1.5 进行转换时。
*2：测量 400 nm 厚玻璃膜时的标准偏差（容差）。
*3：取决于使用的光学系统或物镜放大率。
*4：VLSI 标准测量保证文件中记录的测量保证范围。
*5：*短曝光时间。

尺寸

c10178-03 外形尺寸图

 

 

 

a10193-02 外形尺寸图

a10192-01 外形尺寸图

 

 

 

l6758-11 外形尺寸图


特点

・用于超薄薄膜测量（玻璃：1 nm 起，硅：0.43 nm 起）

・高精度（测量可再现性：≤ 0.1 nm）*测量 2 nm 厚度的二氧化硅 (SiO2) 时

・使用大功率白光源

・使用寿命长（维护周期：1 年以上）

・支持 PLC 连接

・缩短周期时间（高达 200 Hz）

・涵盖宽波长范围（200 nm 至 790 nm）

・软件中添加了简化的测量

・能够同时进行表面分析

・在距离存在波动的条件下提高测量稳定性

・分析光学常数（n、k）

详细参数

产品编号 C15151-01
测量薄膜厚度范围 玻璃*1：1 nm 至 20 μm
硅*2：0.43 nm*3 至 8.6 μm
测量可再现性 玻璃 *4*5：0.1 nm
硅*6：1 nm
测量精度*5 *7 ±0.4 %
光源 大功率白光源
测量波长范围 200 nm 至 790 nm
光斑尺寸*5 约 Φ1 mm
工作距离 *5 10 mm 起
可测量层数 *多 10 层
分析 FFT 分析、拟合分析、光学常数分析
*短的节拍时间 < 2 ms/point
外部通信接口 以太网
输出信号 模拟输出：0 V 至 10 V/高阻抗 3 通道（*多 3 层）
警报输出：TTL/高阻抗单通道
警告输出：TTL/高阻抗单通道
输入信号 测量开始信号：TTL/高阻抗单通道
电源电压 AC100 V 至 AC240 V，50 Hz/60 Hz
功耗 约 130 VA
光导连接器形状 FC

*1 当以玻璃折射率 1.5 进行转换时。
*2 当以玻璃折射率 3.67 进行转换时。
*3 这是转换为硅折射率的计算值 (3.67)。

*4 测量 2 nm 厚玻璃薄膜时的标准偏差（公差）。

*5 取决于使用的光学系统或物镜放大率。

*6 测量 30 μm 厚标准具时的标准偏差（容差）。

*7 VLSI 标准测量保证文件中记录的测量保证范围。

尺寸


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